| 产品类别 |
细分 |
产品名称 |
主要成分 |
主要应用领域 |
具体用途 |
|---|---|---|---|---|---|
| 通用湿电子化学品 | 单酸类 |
电子级磷酸 |
H3PO4 | 集成电路、显示面板 |
主要用于集成电路、显示面板制造过程的蚀刻等工艺 |
|
电子级硫酸 |
H2SO4 | 集成电路、显示面板 |
主要用于集成电路、显示面板制造过程的蚀刻、清洗等工艺 |
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| 其他类 |
电子级双氧水 |
H2O2 | 集成电路 | 主要用于集成电路制造过程的清洗、蚀刻等工艺 | |
| 功能湿电子化学品 | 蚀刻液 |
硅蚀刻液 |
H3PO4、H2SO4、HNO3、HF、NH4F |
集成电路 |
主要用于减薄、打毛、多晶硅蚀刻、氧化硅蚀刻等工 |
| 金属蚀刻液 |
H3PO4、H2SO4、HNO3、HF、CH3COOH、H2O2、I2、KI |
集成电路、显示面板 |
主要用于金属钨、铝、铜、钴、镍、银、金、钛等结构层的蚀刻工艺 |
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| 清洗剂 | NMP、PGMEA、PGME、环戊酮 | 集成电路 | 主要用于硅晶圆非金属膜层清洗或去除 | ||
| 显影液 |
KOH |
集成电路、显示面板 |
主要用于显影工艺，用于去除曝光后的光刻胶 |
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| 薄膜液 |
DMSO、 MEA、 NMP |
集成电路、显示面板 |
主要用于光刻胶的剥离和清洗工 |
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| 再生剂 | 按需定制 | 集成电路、显示面板 |
主要用于特殊工序制作不达标时返工工艺 |
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